Stroj na poťahovanie šperkov PVD

Depozícia tvrdého filmu je technológia nanášania veľmi tenkého filmu materiálu – od niekoľkých nanometrov do približne 100 mikrometrov alebo hrúbky niekoľkých atómov – na povrch „substrátu“, ktorý sa má potiahnuť, alebo na predtým nanesený povlak, aby sa vytvoril vrstvy. Výrobné procesy nanášania tenkých vrstiev sú jadrom dnešného priemyslu polovodičov, solárnych panelov, CD diskov, diskových jednotiek a optických zariadení.

Nanášanie tenkých vrstiev sa zvyčajne delí do dvoch širokých kategórií – systémy na chemické nanášanie a fyzikálne nanášanie pár.

Existuje mnoho typov magnetrónového naprašovania vo vákuovej peci. Každý má iné princípy fungovania a aplikačné objekty. Ale majú jednu vec spoločnú: interakcia medzi magnetickým poľom a elektrónmi spôsobuje, že elektróny sa špirálovito otáčajú okolo cieľového povrchu, čím sa zvyšuje pravdepodobnosť, že elektrónový argónový plyn bude produkovať ióny. Generované ióny dopadnú na povrch cieľa pôsobením elektrického poľa, aby rozprášili cieľ. Vo vývoji posledných desaťročí sa postupne udomácňujú permanentné magnety a cievkové magnety sa používajú len zriedka.

Cieľový zdroj je rozdelený na vyvážené a nevyvážené typy. Vyvážený cieľový zdroj má rovnomerný povlak a nevyvážený povlak cieľového zdroja má silnú priľnavosť k substrátu. Vyvážené cieľové zdroje sa väčšinou používajú pre polovodičové optické filmy a nevyvážené ciele sa väčšinou používajú na nosné dekoratívne fólie.

Bez ohľadu na rovnováhu alebo nevyváženosť, ak je magnet stacionárny, jeho charakteristiky magnetického poľa určujú, že všeobecná cieľová miera využitia je menšia ako 30 percent. Aby sa zvýšila miera využitia materiálu terča, môže sa použiť rotujúce magnetické pole. Ale otáčanie magnetického poľa vyžaduje rotačný mechanizmus a súčasne sa znižuje rýchlosť rozprašovania. Rotujúce magnetické polia sa väčšinou používajú pre veľké alebo drahé ciele. Ako napríklad naprašovanie polovodičového filmu. Pre malé zariadenia a všeobecné priemyselné zariadenia sa často používa zdroj statického cieľa magnetického poľa.

Je ľahké naprašovať kovy a zliatiny pomocou magnetrónového terča vo vákuovej peci a zapaľovanie a naprašovanie sú veľmi pohodlné. Je to preto, že terč (katóda), plazma a naprašovaná časť/vákuová komora môžu tvoriť slučku. Ak však nastriekate izolátory, ako je keramika, obvod je prerušený. Ľudia teda používajú vysokofrekvenčné napájanie a do slučky pridávajú silný kondenzátor. Týmto spôsobom sa cieľový materiál stane kondenzátorom v izolačnom obvode. Zdroj vysokofrekvenčného magnetrónového naprašovania je však drahý, rýchlosť naprašovania je veľmi malá a technológia uzemnenia je veľmi komplikovaná, takže je ťažké ju použiť vo veľkom meradle. Na vyriešenie tohto problému bolo vynájdené magnetrónové reaktívne naprašovanie. To znamená s použitím kovového terča, pridaním argónu a reaktívneho plynu, ako je dusík alebo kyslík. Keď kovový cieľ zasiahne časť, spojí sa s reaktívnym plynom a vytvorí nitridy alebo oxidy v dôsledku premeny energie.

Aplikácia

   Parameter

Naša spoločnosť

Populárne Tagy: šperky pvd náter stroj, Čína, dodávatelia, výrobcovia, továreň, prispôsobené, kúpiť, cena, cenová ponuka